本实用新型涉及高分子薄膜技术领域，具体为一种高分子薄膜清洗设备。

背景技术

高分子薄膜是以有机高分子聚合物为材料制成的薄膜，随着石油工业和科技的发展，高分子膜的应用领域不断扩大，由最初的包装膜发展到了智能高分子膜、高分子功能膜等，在高分子薄膜生产完成之后，需要对高分子薄膜进行清洗，为此中国专利网发布了一种高分子薄膜清洗设备，公开号为CN216705267U，包括底板，所述底板的上端固定连接有清洗箱，所述底板的上端清洗箱的一侧设置有支撑架，所述支撑架的内侧转动连接有收卷辊，所述清洗箱与支撑架之间设置有除水组件，所述除水组件包括两组支撑柱，两组所述支撑柱之间通过转轴转动连接有第一清洁套、第二清洁套，所述支撑柱的一侧固定连接有连接板，两组所述连接板之间滑动连接有集水箱，所述集水箱的内侧设置有刮板，所述集水箱的前端设置有调节组件，所述底板前端的连接板的前端设置有固定组件，本实用新型，能够吸取高分子薄膜上的清洗液，保证高分子薄膜的质量，防止清洗液的存在腐蚀高分子材料，影响高分子材料的质量，但还是存在以下缺点，在对高分子薄膜表面进行清洗时，只通过清洗箱喷出清洗液对高分子薄膜表面进行清洗，该清洗方式在清洗时，可能会导致高分子薄膜表面清洗不干净，因此提出一种高分子薄膜清洗设备。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高分子薄膜清洗设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

2022231743890一种高分子薄膜清洗设备.zip

附图