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成果介绍

中华人民共和国国家知识产权局

  • (12) 实用新型专利
  • (10) 授权公告号: CN 212256007 U
  • (45) 授权公告日: 2020.12.29
  • (21) 申请号: 202020985133.X
  • (22) 申请日: 2020.06.02
  • (73) 专利权人: 潘仲中
  • 地址: 362000 福建省泉州市晋江市德泰路126号
  • (72) 发明人: 潘仲中
  • (51) Int.Cl. G03F 7/20(2006.01)

权利要求书1页 说明书4页 附图2页

实用新型名称

一种LED生产用光刻装置

摘要

本实用新型涉及LED生产技术领域,且公开了一种LED生产用光刻装置,包括底座,所述底座的底部活动连接有万向轮,所述底座的顶部活动连接有气压缸,所述气压缸的输出端活动连接有气压杆,所述气压杆的一端固定连接有支撑座,所述支撑座的一侧开设有凹槽,所述凹槽的内壁开设有滑槽,所述滑槽的内壁活动连接有滑块。

该LED生产用光刻装置,达到了散热效果较好的目的,解决了一般LED生产用光刻装置结构较为单一且散热效果较差的问题,便于将装置内部使用时产生的热量快速散出,降低对装置的损耗,利于延长装置的使用寿命,且结构灵活便于调节装置的使用高度,提高了装置的灵活性,便于使用者根据实际使用需求进行调节和移动,满足了使用者的使用需求。

权利要求书

CN 212256007 U 1/1页

  1. 一种LED生产用光刻装置,包括底座(1),其特征在于:所述底座(1)的底部活动连接有万向轮(2),所述底座(1)的顶部活动连接有气压缸(3),所述气压缸(3)的输出端活动连接有气压杆(4),所述气压杆(4)的一端固定连接有支撑座(5),所述支撑座(5)的一侧开设有凹槽(6),所述凹槽(6)的内壁开设有滑槽(7),所述滑槽(7)的内壁活动连接有滑块(8),所述滑块(8)的外壁固定连接有盒体(9),所述盒体(9)的内壁活动连接有电机(10),所述电机(10)的输出轴通过联轴器活动连接有风扇(11),所述支撑座(5)的顶部开设有卡槽(13);所述卡槽(13)的内壁活动连接有卡块(14),所述卡块(14)的外壁固定连接有盖体(15),所述支撑座(5)的顶部活动连接有光刻装置本体(16),所述盖体(15)的一侧开设有活动槽(17),所述活动槽(17)的内壁固定连接有固定块(18),所述固定块(18)的外壁活动连接有弹簧(19),所述弹簧(19)的一端活动连接有固定柱(20),所述固定柱(20)的一端固定连接有支撑环(21),所述支撑环(21)的内壁活动连接有支撑杆(22),所述支撑杆(22)的一端活动连接有活动块(23),所述支撑杆(22)的外壁活动连接有活动环(24),所述活动环(24)的外壁活动连接有防护帘(25),所述防护帘(25)的一侧活动连接有避光层(26),所述防护帘(25)的另一侧活动连接有固定珠(27)。
  2. 根据权利要求1所述的一种LED生产用光刻装置,其特征在于:所述支撑座(5)为凹形支撑座,且支撑座(5)通过卡槽(13)和卡块(14)与盖体(15)活动连接,且卡槽(13)的形状大小与卡块(14)的形状大小均相互匹配。
  3. 根据权利要求1所述的一种LED生产用光刻装置,其特征在于:所述凹槽(6)的内壁活动连接有隔网(12),且隔网(12)的宽度与盒体(9)的宽度相等,且隔网(12)的垂直中线与盒体(9)的垂直中线处于同一位置。
  4. 根据权利要求1所述的一种LED生产用光刻装置,其特征在于:所述风扇(11)的数量为两个至四个,且每一个至两个风扇(11)为一组,且两组风扇(11)以盒体(9)的垂直中线为对称轴对称设置,所述盒体(9)通过滑块(8)和滑槽(7)与凹槽(6)活动连接。
  5. 根据权利要求1所述的一种LED生产用光刻装置,其特征在于:所述固定柱(20)为凹形固定柱,且固定柱(20)通过弹簧(19)与固定块(18)活动连接,且固定柱(20)的形状大小与弹簧(19)和固定块(18)组合的形状大小均相互匹配,且固定块(18)为凸形固定块。
  6. 根据权利要求1所述的一种LED生产用光刻装置,其特征在于:所述支撑杆(22)的一端分别贯穿支撑环(21)的内壁和活动环(24)的内壁并延伸至活动块(23)的内壁,且支撑杆(22)的两端均设置有螺纹。
  7. 根据权利要求1所述的一种LED生产用光刻装置,其特征在于:所述固定珠(27)的数量为一个至六个,且一个至六个固定珠(27)等间距设置在防护帘(25)的一侧,所述避光层(26)为银胶布避光层。

说明书

CN 212256007 U 1/4页

一种LED生产用光刻装置

技术领域

本实用新型涉及LED生产技术领域,具体为一种LED生产用光刻装置。

背景技术

光刻技术是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到基片上的技术,其主要过程...

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述...



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