本实用新型公开了一种MPCVD腔体结构，包括支撑台、腔体、微波发生装置、进气管、阀门、出气管、滑板、密封盖板、支撑座、衬底基座和连接杆。本实用新型的有益效果是：首先通入气体，随后启动微波发生装置，在微波的激励下，在反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，产生等离子体，在衬底基座上沉积得到产品金刚石，随后为了便于快速取出产品，只需通过驱动滑板滑动，进而滑板带动密封盖板向顶部运动，便于打开腔体，同时密封盖板带动连接杆和衬底基座一起向顶部运动，便于将衬底基座和产品移出至腔体外，方便在取出产品时，避免腔体过热导致烫伤，同时衬底基座位于腔体的外侧，方便单独快速散热，方便快速拿取产品，使用方便。

摘要附图

权利要求书

1.一种MPCVD腔体结构，包括支撑台（1），其特征在于：所述支撑台（1）的顶部设有腔体（2）和微波发生装置（3），所述微波发生装置（3）与所述腔体（2）相连接，所述腔体（2）的两侧安装有进气管（4）和出气管（6），所述进气管（4）和所述出气管（6）上均安装有阀门（5），所述腔体（2）的内壁安装有支撑座（12），所述支撑座（12）的顶部设有衬底基座（13），所述腔体（2）的顶部设有有密封盖板（10），所述密封盖板（10）的底部固定有多个连接杆（14），所述连接杆（14）远离所述密封盖板（10）的一端与所述衬底基座（13）之间固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种MPCVD腔体结构，其特征在于：所述支撑台（1）的顶部固定有电机（7），所述电机（7）的一端固定有丝杆（8），所述支撑台（1）的内壁滑动连接有滑板（9），所述丝杆（8）的一端与所述滑板（9）的内壁螺纹连接，所述滑板（9）的底部与所述密封盖板（10）之间固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种MPCVD腔体结构，其特征在于：所述腔体（2）上设有多个密封垫（11），所述密封盖板（10）能与所述密封垫（11）抵触。

4.根据权利要求1所述的一种MPCVD腔体结构，其特征在于：所述衬底基座（13）上开设有凹槽（15）。

5.根据权利要求4所述的一种MPCVD腔体结构，其特征在于：所述凹槽（15）的截面为梯形。

6.根据权利要求1所述的一种MPCVD腔体结构，其特征在于：所述衬底基座（13）的底部开设有多个散热孔（16）。

说明书

一种MPCVD腔体结构

技术领域

本实用新型涉及一种MPCVD腔体结构，属于MPCVD设备技术领域。

背景技术

化学气相沉积（CVD）技术被广泛应用于金刚石、类金刚石、氧化硅、非晶硅等薄膜/晶体的制备，CVD法具有沉积温度低、薄膜成分易控、均匀性好等优势。其中微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)因为其无极放电，污染少，等离子体密度高等优点，微波等离子体气相沉积（MPCVD）法是目前制备高质量、大面积金刚石的最有前景的手段。MPCVD法是通过高温等离子体将气体分解成含碳的活性基团，在一定条件下，在衬底材料上沉积出金刚石的方法，该方法在合成质量和尺寸上都有很大优势。

现有的MPCVD设备在运行结束后，腔体温度较高，需要经过长时间散热，才能将腔体内散热才能将产品取出，因此等待时间长，耗费较多时间，无法快速方便取出产品。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种MPCVD腔体结构，方便取出，便于散热，操作简便。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的，一种MPCVD腔体结构，包括支撑台，所述支撑台的顶部设有腔体和微波发生装置，所述微波发生装置与所述腔体相连接，所述腔体的两侧安装有进气管和出气管，所述进气管和所述出气管上均安装有阀门，所述腔体的内壁安装有支撑座，所述支撑座的顶部设有衬底基座，所述腔体的顶部设有有密封盖板，所述密封盖板的底部固定有多个连接杆，所述连接杆远离所述密封盖板的一端与所述衬底基座之间固定连接。

优选的，为了便于驱动密封盖板滑动，进而对腔体进行密封和方便取出衬底基座，所述支撑台的顶部固定有电机，所述电机的一端固定有丝杆，所述支撑台的内壁滑动连接有滑板，所述丝杆的一端与所述滑板的内壁螺纹连接，所述滑板的底部与所述密封盖板之间固定连接。

优选的，为了便于提高密封效果，所述腔体上设有多个密封垫，所述密封盖板能与所述密封垫抵触。

优选的，为了便于产品稳定沉积在衬底基座上，所述衬底基座上开设有凹槽。

优选的，为了便于取出产品，避免产品堆积在凹槽边缘难以清理，所述凹槽的截面为梯形。

优选的，为了便于对衬底基座和产品进行散热，所述衬底基座的底部开设有多个散热孔。

本实用新型的有益效果是：支撑台的顶部设有腔体和微波发生装置，微波发生装置与腔体相连接，腔体的两侧安装有进气管和出气管，进气管和出气管上均安装有阀门，腔体的内壁安装有支撑座，支撑座的顶部设有衬底基座，腔体的顶部设有有密封盖板，密封盖板的底部固定有多个连接杆，连接杆远离密封盖板的一端与衬底基座之间固定连接，首先打开进气管的阀门，通入气体，随后启动微波发生装置，在微波的激励下，在反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，产生等离子体，在衬底基座上沉积得到产品金刚石，衬底基座上的凹槽便于产品稳定沉积，随后为了便于快速取出产品，只需通过驱动滑板滑动，进而滑板带动密封盖板向顶部运动，便于打开腔体，同时密封盖板带动连接杆和衬底基座一起向顶部运动，便于将衬底基座和产品移出腔体中，方便在取出产品时，避免腔体过热导致烫伤，同时衬底基座位于腔体的外侧，方便单独快速散热，加快产品的散热速率，方便快速拿取产品，使用方便。 

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为图1所示的A部放大示意图；

图3为图1所示的衬底基座和凹槽的连接结构示意图。

图中：1、支撑台，2、腔体，3、微波发生装置，4、进气管，5、阀门，6、出气管，7、电机，8、丝杆，9、滑板，10、密封盖板，11、密封垫，12、支撑座，13、衬底基座，14、连接杆，15、凹槽，16、散热孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1至图3所示，一种MPCVD腔体结构，包括支撑台1，所述支撑台1的顶部设有腔体2和微波发生装置3，所述微波发生装置3与所述腔体2相连接，所述腔体2的两侧安装有进气管4和出气管6，所述进气管4和所述出气管6上均安装有阀门5，所述腔体2的内壁安装有支撑座12，所述支撑座12的顶部设有衬底基座13，所述腔体2的顶部设有有密封盖板10，所述密封盖板10的底部固定有多个连接杆14，所述连接杆14远离所述密封盖板10的一端与所述衬底基座13之间固定连接。

作为本实用新型的一种技术优化方案，所述支撑台1的顶部固定有电机7，所述电机7的一端固定有丝杆8，所述支撑台1的内壁滑动连接有滑板9，所述丝杆8的一端与所述滑板9的内壁螺纹连接，所述滑板9的底部与所述密封盖板10之间固定连接，进而便于驱动密封盖板10滑动，进而对腔体2进行密封和方便取出衬底基座13。

作为本实用新型的一种技术优化方案，所述腔体2上设有多个密封垫11，所述密封盖板10能与所述密封垫11抵触，进而便于提高密封效果。

作为本实用新型的一种技术优化方案，所述衬底基座13上开设有凹槽15，进而便于产品稳定沉积在衬底基座13上。

作为本实用新型的一种技术优化方案，所述凹槽15的截面为梯形，进而便于取出产品，避免产品堆积在凹槽边缘难以清理。

作为本实用新型的一种技术优化方案，所述衬底基座13的底部开设有多个散热孔16，进而便于对衬底基座13和产品进行散热。

本实用新型在使用时，首先打开进气管4的阀门5，通入气体，随后启动微波发生装置3，在微波的激励下，在反应室内产生辉光放电，使反应气体的分子离化，产生等离子体，在衬底基座13上沉积得到产品金刚石，衬底基座13上的凹槽15便于产品稳定沉积，随后为了便于快速取出产品，只需通过启动电机7，电机7带动丝杆8转动，从而丝杆8螺纹驱动滑板9滑动，进而滑板9带动密封盖板10向顶部运动，便于打开腔体2，同时密封盖板10带动连接杆14和衬底基座13一起向顶部运动，便于将衬底基座13和产品移出至腔体2外，方便在取出产品时，避免腔体2过热导致烫伤，同时衬底基座13位于腔体2的外侧，方便单独快速散热，此外衬底基座13底部的散热孔16便于气流流通，提高衬底基座13的散热效率，加快产品的散热速率，方便快速拿取产品，使用方便，随后驱动电机7反向转动，进而带动滑板9和密封盖板10向底部滑动，使得密封盖板10对腔体2进行稳定密封，方便密封操作，省时省力，密封垫11便于提高密封盖板10与腔体2之间的密封效果。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。